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미세 전자 에칭을위한 산성 전자 등급 HCL
무색 비 불연성 가스이며, 매우 자극적 인 냄새가 있으며, 습한 공기의 경우 습한 공기가 흰 안개를 생성하고 물, 염산에 쉽게 용해되는 비율이 공기보다 큽니다. 강한 부식성은 다양한 금속과 반응하여 수소를 생산할 수 있으며, 시안화물의 경우 고독한 수소 시안화물을 생성하는 경우 공기와 폭발성 혼합물을 형성 할 수 있습니다.
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실리콘 증착을위한 염소화 된 고순도 siCl₄
실온에서는 습한 공기와 흰색 산 미스트의 가수 분해로 인해 휘발성, 강한 반동, 연기제로 일반적으로 사용됩니다.
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반도체 도핑을위한 고순도 특수 ASH₃
무진색 가스는 가장 간단한 비소 화합물이며 무색이며 독성이 높고 가연성 가스입니다. 표준 조건에서 ASH3은 공기보다 무색이며 밀도가 높으며 물 (200 mL/L) 및 다양한 유기 용매입니다.
 
적용 : 반도체
순도 : 99.9999%/99.99995%
CAS : 7784-42-1
패키지 : 실린더
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웨이퍼 청소에서 부식 산업 CL₂
염소 가스는 정상 온도와 압력에서 황록색이며, 매운 냄새가 강한 독성 가스입니다. 공기보다 밀도가 높고 물에 용해되며 압축하기 쉽고 황금 액체 염소로 액화 될 수 있습니다. 클로르 알칼리 산업의 주요 제품 중 하나이며 강한 산화제로 사용될 수 있습니다.
 
응용 프로그램 : 반도체/드라이 에칭
순도 : 99.999%
CAS : 7782-50-5
패키지 : 실린더
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플라즈마 에칭을위한 불소화 안정 C₂F₆
그것은 불소 원자로 대체 된 에탄에서 6 개의 수소 원자의 생성물 인 유기 화합물입니다. 정상적인 무색 가스입니다
온도와 압력. 주로 절연 가스, 혈장 에칭 제 및 고 유전체 강도 냉각수로 사용됩니다.
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반도체 제조에서 고도로 반응성 고순도 B₂H₆
 
당신이 분리 할 수있는 가장 간단한 보레인입니다. 디보 레인 가스는 실온에서 무색 가스입니다. 그것은 공기와 폭발성 혼합물을 형성하고 습한 공기에서 자발적으로 점화됩니다. 매우 독성이 있습니다.
 
응용 프로그램 : 반도체/도핑
순도 : 99.999%
CAS : 19287-45-7
패키지 : 실린더
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얇은 필름 증착을위한 초고 가연성 GeH₄
 
GEH4는 무색, 독성이 높고 가연성 및 비 경멸 가스입니다. 게르만 란의 열 안정성은 열악하고, 게르만의자가 촉매는 강력하며, 일단 분해가 형성된 금속 덮개 필름이 빠르게 분해되므로 분해 폭발 위험이 매우 높습니다.
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고급 부식성 NH₃ 반도체 처리를위한 가스
무색 가스. 강한 매운 냄새가 있습니다. 무색 액체로 쉽게 액화됩니다. 물, 에탄올 및 에테르에 가용성. 고온에서는 질소와 수소로 분해되어 효과를 줄입니다.
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TiCl₄
화학식 TiCl4를 갖는 무기 화합물입니다.사염화티타늄은 티타늄 및 그 화합물의 생산에서 중요한 중간체입니다.실온에서 사염화티타늄은 무색 액체이며 공기 중에서 연기를 내어 이산화티타늄 고체와 염산 방울의 혼합물을 형성합니다.
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C₃H₈
일반적으로 기체 상태이지만 일반적으로 액체 상태로 압축되어 운반됩니다.원유 또는 천연 가스 처리 후 완성된 오일에서 프로판을 얻을 수 있습니다.프로판은 일반적으로 엔진, 바비큐 음식 및 가정 난방 시스템의 연료로 사용됩니다.
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CH₄
메탄은 가장 단순한 탄화수소입니다.천연 가스, 바이오 가스, 탄광 구덩이 가스에 널리 존재하며 고품질 가스 연료이며 합성 가스 및 많은 화학 제품 제조에 중요한 원료이기도 합니다.
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CHF₃
트리플루오로메탄으로도 알려진 트리플루오로메탄은 무색, 무취의 비전도성 가스로 할로겐을 대체할 수 있는 이상적인 가스입니다.
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CO
무색, 무취, 무미, 유독성 가스, 물에 불용, 녹는점 -199 ° C, 끓는점 -191.5 ° C. 표준 조건에서 가스 밀도는 L.25g / L로 공기와 매우 다릅니다. 밀도(표준 조건에서 1.293g/L)도 가스 중독이 발생하기 쉬운 요인 중 하나입니다.중성 가스입니다.
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H₂S
물에 녹고 알코올, 석유 용매 및 원유에 녹는 무기 화합물입니다.표준 조건에서 인화성 산성 가스이며 무색이며 낮은 농도에서는 썩은 계란 냄새가 나고 매우 낮은 농도에서는 유황 냄새가 나며 독성이 강합니다.
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아니요
인공 방사성 원소, 원소 기호 번호, 원자 번호 102, 원자가 +2, +3(안정 원자가), 상대 원자량(최장 반감기 동위원소) 259, 악티늄족
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CF₄
물에 불용성.그것은 할로겐화 탄화수소이며 할로겐화 탄화수소, 할로겐화 메탄, 과불화탄소로 간주되거나 무기 화합물로 간주될 수 있습니다.레이저 가스 및 냉매로도 사용되는 다양한 집적 회로 플라즈마 에칭 공정에 주로 사용됩니다.
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C₂H₆
에탄 탄소-탄소 단일 결합을 가진 가장 단순한 탄화수소인 알칸 계열의 두 번째 구성원.분자식 C2H6.일부 천연가스의 에탄 함량은 5%~10%로 메탄 다음으로 많다.그리고 석유에 용해된 상태로 존재합니다.
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WF₆
 
현재 유일하게 안정적이고 산업화된 텅스텐 플루오라이드 유형입니다.주로 전자산업에서 텅스텐 화학기상증착(CVD) 공정의 원료로 사용된다.그것으로 만든 WSi2는 대규모 집적회로의 배선재료, 반도체 전극의 원료, 불소화제, 중합촉매, 광학재료 등으로 활용될 수 있다.
 
 
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D₂
중수소는 일반 수소보다 무겁고 안정한 동위원소입니다.무색, 무취, 무독성 가연성 가스입니다.실리콘 소결 또는 어닐링 공정에서 반도체, 태양 전지 및 기타 전자 산업에 사용됩니다.
 
용도:반도체/태양전지
순도:99.999%
CAS:7782-39-0
패키지: 실린더
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